NEW YORK – Americké, ruské a poslední léta i čínské raketoplány jsou stále častějšími obětmi ozónové vrstvy. Viníky jsou jednotlivé atomy kyslíku, radikály, vznikající při tvorbě ozónu. Ultrafialové záření rozkládá molekulu kyslíku na jednotlivé atomy, které jsou pak v nesloučené formě velmi reaktivní, doslova výbušné, a poškozují teflonovou vrstvu na pláštích raketoplánů.

Celý článek je dostupný pouze předplatitelům našich služeb.